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发布时间:2020-07-20 01:40:22
随着科学技术的不断进步,尤其是光电产业和无线通讯的发展,氧化镁(MgO)单晶的需要量越来越大,发展前景非常广阔。在各领域应用中,氧化镁(MgO)单晶的尺寸一般要求在5 X 5 X 5mm-100 X 100 X IOOmm之间,甚至更大。目前生产氧化镁(MgO)晶体的主流技术是电弧炉熔融法。主要通过高温电弧作热源在原料中心形成熔体,在加热过程停止后熔体经自然冷却得到晶体。传统的电弧炉的结构较为简单,炉壳是由耐火砖与钢壳构成,电极的功率和位置控制主要是靠经验手动操作。
随着科学技术的不断进步,尤其是光电产业和无线通讯的发展,氧化镁(MgO)单晶的需要量越来越大,发展前景非常广阔。在各领域应用中,氧化镁(MgO)单晶的尺寸一般要求在5 X 5 X 5mm-100 X 100 X IOOmm之间,甚至更大。氧化镁的熔点在2800°C以上,沸点为3600°C,所以要想得到大尺寸、高纯度的氧化镁单晶,对原料的选择和控制要求非常严格。在高温超导领域,氧化镁(MgO)晶体作为薄膜生长基片和半导体材料的衬底驻基片同其它材料相比(如金刚石、白蓝宝石等)具有明显的价格优势,且性能良好。
氧化镁(MgO)是离子化合物,同样也是离子晶体,虽然一般来说,原子晶体的熔点的确比离子晶体高,但是这并不绝1对,键能较低的原子晶体熔点明显比键能高的离子晶体低。因为氧化镁是由氧离子和镁离子通过离子键结合成的.。随着科学技术的不断进步,尤其是光电产业和无线通讯的发展,单晶氧化镁的需要量越来越大,发展前景非常广阔。在各领域应用中,氧化镁单晶的尺寸一般要求在5 X 5 X 5mm-100 X 100 X IOOmm之间,甚至更大。
透明MgO单晶的熔点高达2800℃,是无残留气孔的高致密性材料。因其光透过率、折射率、热导率、电绝缘性、化学稳定性、机械强度等方面性能优异,具有广泛的用途。氧化镁单晶在许多高技术领域的研究和生产中有着独特的优势,其中,大尺寸氧化镁单晶体以及以此为基础做成的高温超导基片及双面膜为参与国际高科技竟争的关键产品。
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